|
Λεπτομέρειες:
Πληρωμής & Αποστολής Όροι:
|
| Shape: | Customised | Chemical Composition: | W |
|---|---|---|---|
| Relative Density (%): | ≥99 | Ra: | ≤1.6 |
| Application: | thickness and smooth erosion | Product name: | Ultra high purity material tungsten alloy w sputtering target |
| Purity (wt.%): | 99.9%~99.995% | Grain Size: | ≤50 |
| Dimension (mm): | ≤D.452 | ||
| Επισημαίνω: | W-Tj ψεκάζοντας στόχοι μετάλλων,επίπεδοι ψεκάζοντας στόχοι μετάλλων καταλυμάτων,ψεκάζοντας στόχοι για την επεξεργασία ημιαγωγών |
||
Υψηλής καθαρότητας κράμα βολφραμίνης W-Ti στόχος ψεκασμού Πλάκα επίπεδη μπιλέτα για ημιαγωγούς φυσική αποσύνθεση ατμών
Τουλφρένιο-τιτάνιο (WTi) οι ταινίες είναι γνωστό ότι λειτουργούν ως αποτελεσματικό φράγμα διάχυσης μεταξύ Al και Si στη βιομηχανία ημιαγωγών και φωτοβολταϊκών κυψελών.WTiΟι ταινίες συνήθως εναποτίθενται ως λεπτές ταινίες με φυσική εναπόθεση ατμών (PVD) μέσω ψεκασμού ενόςWTiΕίναι επιθυμητό να παραχθεί ένας στόχος που θα παρέχει ομοιομορφία ταινίας,Για να ικανοποιηθούν οι απαιτήσεις αξιοπιστίας των φραγμών διάχυσης των πολύπλοκων ολοκληρωμένων κυκλωμάτων, ηWTiο στόχος του κράματος πρέπει να έχει υψηλή καθαρότητα και υψηλή πυκνότητα.
| Τύπος |
W (σε % κατά βάρος) |
Τι (σε % κατά βάρος) |
Καθαρότητα (σε % κατά βάρος) |
Σχετική πυκνότητα (%) |
Μέγεθος κόκκου (μm) | Μέγεθος (mm) |
Ρα (μm) |
| WTi-10 | 90 | 10 | 99.9-99.995 | ≥99 | ≤ 20 | ≤Ø452 | ≤ 1.6 |
| WTi-20 | 80 | 20 | 99.9-99.99 | ≥99 | ≤ 20 | ≤Ø452 | ≤ 1.6 |
| WTi | 70-90 | 10-30 | 99.9-99.995 | ≥99 | ≤ 20 | ≤Ø452 |
≤ 1.6 |
Υπεύθυνος Επικοινωνίας: Ms. Jiajia
Τηλ.:: 15138768150
Φαξ: 86-0379-65966887
